Utrecht (NL) – Een nieuwe, snellere productietechniek geeft halfgeleiderlagen met betere elektronische eigenschappen.


Platte beeldschermen bestaan uit een ondergrond van glas of plastic met daarop een dunne laag amorf silicium. Onder invloed van een kortstondige elektrische spanning wordt deze halfgeleiderlaag gedurende een fractie van een seconde geleidend. Op deze wijze kun je lokaal een spanningsverschil creëren en zo afzonderlijke pixels in een lcd-beeldscherm aansturen.
De huidige siliciumlagen in beeldschermen hebben als nadeel dat ze niet stabiel zijn: hun elektronische eigenschappen veranderen als het materiaal onder ‘stress’ staat. Zo verandert een naburige spanning de spanning die nodig is om een stukje silicium geleidend te maken. Dit is een ongewenst effect in de elementen die de pixels van een plat beeldscherm aansturen.
Natuurkundigen van de Universiteit Utrecht ontwikkelden siliciumlagen met een grotere stabiliteit. De lagen danken hun verbeterde elektronische eigenschappen aan de manier waarop de onderzoekers ze maken, namelijk door zogeheten hot wire chemical vapour deposition. Deze nieuwe methode heeft als extra voordeel dat de vormingssnelheid tienmaal hoger is dan bij conventionele technieken. De productiekosten van platte beeldschermen gaan daardoor aanzienlijk omlaag.

Mirjam Leunissen